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[세미나] [세미나 2/23 10:30]최근 반도체 공정 기술 동향 및 이슈–플라즈마 공정 개발 방향

2010-02-17l 조회수 10119




아래와 같이 세미나를 공고하오니 많은 참석을 부탁드립니다.

<세미나 공고>

최근 반도체 공정 기술 동향 및 이슈 – 플라즈마 공정 개발 방향

장소 : 서울대학교 반도체공동연구소 산학협동관 설계연구관 104-1동 403호
일시 : 2010년 2월 23일 오전 10:30-11:30
연사 : 신경섭 (삼성전자 반도체연구소 수석연구원)

연사 약력:
   - 서울대 전기공학과 학사 (1992), 석사 (1994)
   - 삼성전자 입사 (1994)
   - UC Berkeley 전기공학과 박사 (2006)
   - 삼성 전자 반도체 연구소 수석 연구원 (현재)

발표 초록:
Scaling 한계가 가까워짐에 따른 반도체 제조 공정 기술상의 이슈 및 이를 극복하기 위한 대안들을 소개하고
특히, 반도체 제조 공정의 대부분을 차지하는 플라즈마 공정과 관련된 직면 이슈 및 개발 방향에 대해 논의하고자 합니다.

문의 : 서울대 전기공학부 황기웅 교수님실 Tel. 02-880-9952

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